ASML advierte que presionar demasiado a China en chips puede crear un rival propio
Christophe Fouquet, el CEO de ASML, dijo algo que no suelen decir los jefes de las empresas que hoy tienen el monopolio de una tecnología: que ese monopolio no es eterno. En una entrevista con el Financial Times sostuvo que “intentar estrangular demasiado a China puede acabar creando un competidor”, y recordó que por ahora solo hay una compañía en el mundo capaz de fabricar las máquinas de litografía ultravioleta extrema (EUV) necesarias para los chips más avanzados. Esa compañía es la suya.
“Si China efectivamente logra fabricar sus propias máquinas EUV, el negocio que hoy depende por completo de ASML deja de tener un solo proveedor.”
ASML llegó a ese lugar porque Canon y Nikon abandonaron sus proyectos de EUV hace más de diez años. Sin esas máquinas, la china SMIC tiene que recurrir al multiple patterning para llegar a los 7 nanómetros, un método más lento, más caro y con menos chips utilizables por oblea que la tecnología neerlandesa.
Pero China viene avanzando por su cuenta. En 2025 trascendió que Huawei probaba un primer equipo EUV hecho íntegramente en el país, con una fuente de luz distinta a la que usa ASML. El Instituto de Harbin trabaja en una fuente de 100 vatios, el de Changchun en espejos pulidos a nivel atómico que se acercarían a los que fabrica Zeiss, y la Universidad Tsinghua avanzó con fotorresistencias para la longitud de onda que usa el EUV. Xuzhou B&C Chemical, por su parte, espera producir a gran escala las fotorresistencias KrF y ArF en un plazo de cinco años. Según las filtraciones que circulan, los primeros circuitos de prueba podrían salir en 2028, y la fabricación masiva llegaría como muy tarde en 2030.
Fouquet no está hablando de un futuro lejano ni de un escenario hipotético: habla de un plan con instituciones, fechas y plata detrás. Si China efectivamente logra fabricar sus propias máquinas EUV, el negocio que hoy depende por completo de ASML deja de tener un solo proveedor.
